ASML, 리소그래피 시스템 툴 '레고 버전'으로 탄생

2024.12.04 15:55:23

차세대 EUV 장비 '하이 NA' 레고…이색 기념품
인텔·TSMC 이어 삼성·SK까지 하이 NA 도입 가속화

[더구루=정예린 기자] 네덜란드 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광 장비 '하이(High) NA' 레고 세트가 등장했다. 실제 기계를 그대로 구현한 특별한 기념품으로 주목받고 있다. 

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정예린 기자 yljung@theguru.co.kr
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