[더구루=정예린 기자] 중국 국영 연구기관이 반도체 미세 회로 패터닝에 필수적인 193나노미터(nm) 심자외선(DUV) 고체 레이저 광원을 세계 최초로 개발했다. 네덜란드 ASML 등 글로벌 노광 장비 기업에 대한 의존도를 줄이고, 반도체 자립을 앞당길지 주목된다.
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