ASML, 리소그래피 시스템 툴 '레고 버전'으로 탄생

차세대 EUV 장비 '하이 NA' 레고…이색 기념품
인텔·TSMC 이어 삼성·SK까지 하이 NA 도입 가속화

[더구루=정예린 기자] 네덜란드 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광 장비 '하이(High) NA' 레고 세트가 등장했다. 실제 기계를 그대로 구현한 특별한 기념품으로 주목받고 있다. 


해당 콘텐츠는 유료 서비스입니다.

  • 기사 전체 보기는 유료 서비스를 이용해주시기 바랍니다. (vat별도)
  • 해당 콘텐츠는 구독자 공개 콘텐츠로 무단 캡처 및 불법 공유시 법적 제재를 받을 수 있습니다.








테크열전

더보기




더구루인사이트

더보기