中, 193나노 DUV 고체 레이저 광원 '세계 최초' 개발...반도체 미세 패터닝 '필수'

중국과학원, 국제 학술지 '어드밴스드 포토닉스'에 논문 발표
기체 DUV 레이저 대비 장비 유지보수 비용↓·에너지 효율↑

[더구루=정예린 기자] 중국 국영 연구기관이 반도체 미세 회로 패터닝에 필수적인 193나노미터(nm) 심자외선(DUV) 고체 레이저 광원을 세계 최초로 개발했다. 네덜란드 ASML 등 글로벌 노광 장비 기업에 대한 의존도를 줄이고, 반도체 자립을 앞당길지 주목된다.


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