中 반도체 자립 '가속'...칭화대, EUV 포토레지스트 독자 개발

'폴리텔루옥산 기반' EUV 포토레지스트 설계…고성능 구현
장비 막히자 소재로 돌파…中, 초미세 공정 경쟁력 강화

[더구루=정예린 기자] 중국 칭화대학교 연구팀이 초미세 반도체 제조의 핵심 소재인 극자외선(EUV) 포토레지스트를 독자 개발했다. 중국이 EUV 공정용 소재 기술을 자체 확보한 것은 이번이 처음으로, 반도체 자립을 위한 기술 내재화에 속도가 붙을 것으로 보인다.


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