'반도체 필수' ASML EUV 노광 장비, 日 공장 잇따라 도입

일본 라피더스, 올해 홋카이도 치토세 공장에 EUV 노광 장비 도입 예정
EUV 노광 장비, 미세한 반도체 회로 제작…7나노 이하 공정에 '필수적'

 

[더구루=김은비 기자] 반도체 첨단 공정 구현을 위한 핵심 설비 극자외선(EUV) 노광 장비가 일본에 상륙한다. 일본 반도체 업계에서는 EUV 노광 장비 도입을 통해 반도체 산업의 변화를 이끌어낸다는 방침이다. 


해당 콘텐츠는 유료 서비스입니다.

  • 기사 전체 보기는 유료 서비스를 이용해주시기 바랍니다. (vat별도)
  • 해당 콘텐츠는 구독자 공개 콘텐츠로 무단 캡처 및 불법 공유시 법적 제재를 받을 수 있습니다.








테크열전

더보기




더구루인사이트

더보기